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掃描電鏡（SEM）在成像過(guò)程中對(duì)樣品表面狀態(tài)非常敏感，樣品表面不平整（如高低起伏、傾斜、凹凸不平）會(huì)對(duì)圖像質(zhì)量和分析結(jié)果產(chǎn)生多個(gè)方面的負(fù)面影響：

1. 圖像失焦、局部模糊

由于 SEM 的焦距是固定的，表面高度不一會(huì)使部分區(qū)域超出焦平面；

結(jié)果是：只有一部分區(qū)域清晰，其他區(qū)域模糊或無(wú)法聚焦；

特別是在高放大倍率下，這種現(xiàn)象更加明顯。

2. 成像畸變

當(dāng)表面傾斜或起伏劇烈時(shí)，電子束入射角度變化；

會(huì)導(dǎo)致圖像比例失真、邊緣拉伸或壓縮，甚至出現(xiàn)幾何變形；

特別是在測(cè)量微結(jié)構(gòu)尺寸時(shí)，會(huì)影響準(zhǔn)確性。

3. 信號(hào)收集不均，圖像亮度不一致

表面不平整導(dǎo)致二次電子或背散射電子發(fā)射方向不同；

會(huì)造成圖像中某些區(qū)域亮度增強(qiáng)或變暗，產(chǎn)生不自然的對(duì)比差異；

影響細(xì)節(jié)識(shí)別和表面結(jié)構(gòu)分析。

4. 帶電效應(yīng)加劇

不平整樣品上存在尖銳邊緣或突起部位，易聚集電荷；

結(jié)果是圖像出現(xiàn)漂移、噪聲、閃爍或不規(guī)則亮點(diǎn)；

尤其在未鍍膜的絕緣樣品上更為明顯。

5. 限制合適的工作距離和放大倍率

不平整樣品會(huì)導(dǎo)致某些區(qū)域過(guò)近或過(guò)遠(yuǎn)于物鏡極柱；

高倍率下容易發(fā)生焦點(diǎn)難以統(tǒng)一，甚至發(fā)生碰撞風(fēng)險(xiǎn)；

會(huì)迫使你不得不選用較長(zhǎng)工作距離、較低倍率，影響成像質(zhì)量。

6. 影響能譜分析（EDS）準(zhǔn)確性

高低起伏影響探測(cè)器的入射角度和信號(hào)路徑；

導(dǎo)致元素峰值強(qiáng)度波動(dòng)、空間分布不清晰，甚至錯(cuò)判含量；

特別是在表面傾斜部位，EDS 會(huì)出現(xiàn)陰影效應(yīng)或信號(hào)遮擋。

7. 難以進(jìn)行3D建模或表面分析

若需利用圖像進(jìn)行表面重構(gòu)、紋理分析、深度測(cè)量等，高低不平會(huì)降低數(shù)據(jù)一致性與精度。